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随着半导体工艺向高精度、高集成度发展,晶圆形状逐渐突破传统圆形限制,衍生出带缺口(Notch/Flat)、异形切割、曲面晶圆等特殊形态。这些特殊形状对测试工艺提出新挑战,需针对性开发测试方法以确保良率与可靠性。1、带缺口晶圆的定位与测试缺口
随着半导体工艺向高精度、高集成度发展,晶圆形状逐渐突破传统圆形限制,衍生出带缺口(Notch/Flat)、异形切割、曲面晶圆等特殊形态。这些特殊形状对测试工艺提出新挑战,需针对性开发测试方法以确保良率与可靠性。1、带缺口晶圆的定位与测试缺口
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