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去耦电容(Decoupling Capacitor)是一种用于电子电路中的元件,用于去除电路中的噪声和干扰,保持电路的稳定性和可靠性。它的基本结构是由两个金属板组成的电容器,中间用绝缘材料隔开。01去耦电容基本结构去耦电容通常由两个导体板之

走进电子元件,了解去耦电容

什么是电气性能?电气性能是描述电气的一些参数,如:额定电压、电流、有功功率、无功功率、电阻、电容、电感、电导。结构和性能之间呈现内在的关联性,其中聚集态结构是直接影响材料性能的重要因素。在局部放电损伤过程中,局部放电产生的热量导致表征油浸绝

电气性能是什么?测试有哪些?

在印刷电路板(PCB)设计中,信号传输速度是一个极为关键的参数,直接影响电路的性能,而介电常数作为材料的一种固有属性,与信号传输速度有紧密联系,本文将简要阐述这两者之间的关系。1、介电常数定义介电常数是衡量材料在电场作用下极化程度的物理量,

浅分析PCB板材传输速度与介电常数的关系

上次有个兄弟问了下我单位增益稳定运放的的问题。详细情况如下: 上面描述问题的这一段全是文字,我就copy放到下面了: “看过你很多环路稳定性的东西,想问下你个问题。单位增益的运放,用作反相衰减器,是否工作正常呢?因为看过两个材料,说的正好相反。《运算放大器权威指南》里面提到,单位增

放大器的稳定性问题

导言纳米光子器件(如metasurfaces和metagratings)可在亚波长尺度上对光的传播进行控制。然而,由于必须探索材料和几何形状的巨大非线性设计空间,这些结构的设计和优化面临巨大挑战。传统的逆向设计方法,包括进化算法和基于邻接的优化,已经得到了成功应用,但往往存在局部最小值陷阱和计算效率

Optics Express更新|混合监督和强化学习方法用于纳米光子的逆向设计

芯片切片分析是一种常用的技术,用于研究芯片内部结构和特性。通过对芯片进行切片并观察切片表面的结构,可以获取有关芯片材料、层次、元件结构等方面的信息。以下是关于芯片切片分析的一般步骤:芯片切片分析步骤:样品准备:首先,需要准备要进行切片分析的

芯片切片分析的全流程步骤参考

1、前言MLCC(Multi-layer Ceramic Capacitors)片式多层陶瓷电容器,引起MLCC失效的原因多种多样,各种MLCC的材料、结构、制造工艺、性能和使用环境不相同,失效机理也不一样。 随着技术的不断发展,贴片电容MLCC现在已可以做到几百层甚至上千层了,每层是微米级的厚度。

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元器件可靠性失效分析系列-MLCC(第一篇)

自锂电池问世以来,以惊人速度席卷全球,经过数十年发展,锂电池产业早已成为许多国家的重要经济产业,许多关于锂电池的研究如火如荼开展,人们希望能够研发出寿命更长、续航更强的锂电池,如今这个梦或许即将要实现!据媒体报道,中国科学院青岛生物能源与过

全固态锂电池突破,超长续航不再是梦!

超导材料是一类在特定低温条件下电阻突然降至零的材料,该材料不仅具有零电阻的特性,还表现出完全抗磁性的宏观量子现象。自1911年超导材料被发现后,目前已发现包括28种元素和几千种合金及化合物在内的多种超导体。根据超导临街转变温度(Tc)的不同

2024年我国超导材料产业市场分析及国家政策汇总

今天有个小伙伴留言说不明白CCM和DCM之间的区别,要如何区分这两种模式,我之前在网络上有看到一份关于CCM和DCM这两者之间的判别及分析的材料,个人感觉讲的还是比较到位的,所以分享出来,希望对留言的小伙伴有所帮助。 CCM又称为连续导通模式,顾名思义就在一个开关周期内

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CCM与DCM模式