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简介集成光电子技术利用成熟的 CMOS 制造工艺,将各种设备功能集成到单个芯片上,从而彻底改变了光学和光子技术。这包括光子的产生、操纵和检测。一个令人兴奋的应用是将集成光电子技术用于量子传感、量子计量、量子密码学和光子计算,这通常涉及非常微弱的光信号,低至单光子水平。要在如此低的光水平下进行精确测量

Optics Express更新|用于单光子探测器校准的片上集成光电子技术

随着时代发展,芯片种类繁多,其中之一是光芯片。光芯片是一种重要的集成光电子器件,它利用微纳加工技术和材料科学技术的结合,将光子集成在半导体芯片上,实现光子与电子的相互作用和光路的控制。近期,清华大学宣布,其电子工程系方璐教授课题组、自动化系

清华光芯片面世,首创全前向智能光计算训练架构

引言在晶圆上集成光电子器件为在芯片上实现复杂的光电子功能提供了可靠且可扩展的解决方案。随着数据量持续增长,光电子技术行业需要不断提供更快速、更节能的解决方案,同时保持具有竞争力的性价比。图1:光电子集成芯片生产的相互关联生态系统,包括无晶圆厂企业、集成器件制造商、代工厂和外包半导体组装测试供应商之间

光电子集成技术供应链发展与未来

引言近年来,光子拓扑绝缘体在集成光电子技术领域取得显著进展。这类系统具有独特性质,使光可以沿边缘传播而不受缺陷或无序影响,在光量子技术、激光器和大规模集成光电子技术应用中具有重要价值。传统光子拓扑结构受限于固定配置,难以实现不同拓扑模型或进行制造后调节。然而,最新进展引入了革新性方法:可编程光子拓扑

可编程光子拓扑绝缘体简介

引言垂直耦合器在集成光电子技术中扮演着重要角色,能够实现光纤与片上波导之间的高效光传输。传统光栅耦合器设计通常存在占用面积大、效率有限等问题。本文探讨了创新方法,利用拓扑优化在硅基绝缘体(SOI)平台上创建紧凑、高性能的垂直耦合器[1]。拓扑优化简介拓扑优化是强大的反向设计技术,通过迭代修改材料的空

使用拓扑优化设计高效率集成光电子垂直耦合器