美国绕开EUV光刻机成功实现0.7nm芯片？

近日，美国成功制造出0.7nm芯片的消息正在席卷科技界，引发业界热议，连世界最先进的芯片代工厂商台积电和三星至今仍未突破2nm以下的技术限制，美国是怎么实现0.7nm芯片？

据了解，该消息来自美国Zyvex Labs，9月21日，Zyvex Labs宣布正式推出世界上最高分辨率的光刻系统——ZyvexLitho1，该机器可通过量子物理技术来实现原子精度图案化和亚纳米分辨率，这将促使量子计算能够实现真正意义上的通信加密，更快还原药物发现和天气预报。

据Zyvex Labs表示，ZyvexLitho1是一款基于扫描隧道显微镜仪器，它具备着许多商业扫描隧道显微镜不具备的自动化特性和功能，也是首个提供原子精度图案化的商用工具。

而所谓的0.7nm芯片正是基于该机器而产生的产品。

若是对半导体行业有一定了解，所谓的几纳米芯片其实是一个工艺节点的代号，通常意义上，该代号是用一个数字命名，后跟纳米的缩写，如7nm、5nm、3nm等。

而达成该0.7nm的光刻系统是属于一种称为氢去钝化光刻（Hydrogen Depassivation Lithography ）的技术，它是一种电子束光刻技术 (EBL)，可实现原子分辨率。

据维基百科介绍，电子束光刻（通常缩写EBL）是扫描聚焦电子束以在覆盖有称为光刻胶（曝光）的电子敏感膜的表面上绘制自定义形状的做法。电子束改变了光刻胶的溶解度，通过将抗蚀剂浸入溶剂中（显影），可以选择性地去除曝光或未曝光区域。与光刻一样，其目的是在抗蚀剂中创建非常小的结构，然后通常通过蚀刻将其转移到基板材料上。

电子束光刻的主要优点是它可以绘制具有sub-10 nm 分辨率的自定义图案（直接写入） 。这种形式的无掩模光刻具有高分辨率和低产量，限制了其用于光掩模制造、半导体器件的小批量生产以及研发。

据了解，该机器的用途包括为基于量子点的量子比特制作极其精确的结构，以实现最高的量子比特质量。该产品可用于其他非量子相关应用，例如构建用于生物医学和其他化学分离技术的纳米孔膜。

所以，该0.7nm芯片严格来说智能用于制造小批量的量子处理器芯片，对于我们所常见的手机、电脑等产品，不是很适配。