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在半导体制造设备中，光刻机毫无疑问是最重要的核心设备，直接决定着芯片工艺的先进程度，目前最先进的光刻机是荷兰光刻机制造厂商ASML研发的EUV光刻机，可制造7nm以下的工艺，售价约10亿元左右。
美国打压中国所采取的措施之一就是强制ASML向中国断供EUV光刻机，给我国半导体产业链带来了一定的障碍。这时会有很多人好奇，研发EUV光刻机有多难？除了ASML全球还有别的公司可以制造出来吗？
针对这些问题，近日ASML公司在财报会议上谈到EUV光刻机的研发难点，所以我们来看看研发EUV光刻机有多难？
据ASML表示，和其他企业相比，ASML的最大优势是制造产业链非常强大，是由数百个供应商所组成，而且每个供应商在各自行业均是世界级别的，其中包括通快、蔡司、VDSL等。
如此庞大且精英的供应商组合，必然要求ASML投入庞大的投入资金，有资料表示，光是ASML的投入资金，就高达数十亿美元。
当然，研发EUV光刻机需要的不止是砸钱，还有杀手锏，即专利研发和研发团队，组织研发团队和数百家供应商，就花了ASML长达40年时间，难度极高。
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