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随着芯片逐渐成为各国综合国力的重要指标，华为中芯国际等中企被美国重压制裁，作为“芯片之母”的EUV光刻机更是受到了极大的关注，然而很少人知道，EUV光刻胶也同样重要，毫不夸张地说，没有EUV光刻胶，EUV光刻机就无法生产芯片。
近日，三星电子首次在供应链里引入本土EUV光刻胶，该EUV光刻胶是韩国本土企业东进世美肯半导体所研发的，是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试，之前三星的光刻胶需求是严重高度依赖日本及其他国家。
据了解，东进世美肯半导体的光刻胶早在2021年已通过三星电子的可靠测试，不到一年就被应用大规模的晶圆代工，不难看出三星对东进世美肯半导体抱有多大的期望。
目前，除了东进世美肯半导体，韩国本土企业永昌化学和SK材料性能也在开发EUV光刻胶，但仍未通过可靠性验证。
光刻胶是光刻工艺中的关键材料，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。
和其他细分产业不同，光刻胶企业具有极高的行业壁垒，最大的难点是对树脂和感光剂等原材料要求非常高，而且研发难度和成本非常高，在研发和量产上都需要企业的长期技术积累。
此外在产品送样前，光刻胶生产商还需要购置光刻机用于内部配方测试，根据验证结果调整配方。
