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NVIDIA推芯片光刻技术,ASML等抢着要用

2023-03-23 10:14
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随着台积电和三星在芯片先进制程的不断钻研,芯片的摩尔定律即将达到物理极限,研发5nm以下的芯片难度翻倍增长,面对2nm芯片良品率低和成本高昂、性能表现不佳等的困境,或许NVIDIA能够帮上忙。

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近日,NVIDIA春季GTC技术大会如期召开,作为NVIDIA炫技的主要舞台,NVIDIA可谓是大放光彩,推出的产品及技术都眼花缭乱,然而指得关注的是,NVIDIA推出cuLitho软件加速库,可将计算光刻的用时提速40倍。

据了解,计算光刻是指为芯片生产制作光掩模的技术,而掩膜是一种平面透明或半透明的光学元件,上游芯片加工所需的图案,按照其是否需要曝光将图案转移到光刻胶层上,光刻加工过程后,通过控制光刻机的曝光和开关操作,可将光束根据掩膜上的图案进行分割和定位,使得光束只照射到需要曝光的区域,从而将芯片上的图案转移到光刻胶蹭上,实施芯片光刻。

然后每种芯片都要进行多次曝光,所以光刻中所使用的的掩膜数量不一定相同,举个例子,Intel的14nm CPU需要50多张掩膜,但NVIDA的H100却需要89张掩膜。这些过程都严重依赖CPU服务器集群。

但若是借助NVIDIA的工具,NVIDA表示:500套DGX H100(包含4000颗Hopper GPU)可完成与4万颗CPU运算服务器相同的工作量,但速度快40倍,功耗低9倍。这意味着,GPU加速后,生产光掩模的计算光刻工时可从几周减小到八小时。

如此高的效率,使得ASML、台积电、新思科技等纷纷下单,新思科技甚至将该技术集成到其EDA工具,讲服务2nm以上更高精度的制程。

NVIDIA认为,新技术可以实现更高的芯片密度和产量,按照更好的设计规则以及借助人工智能驱动光刻行业前进。

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