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众所周知，由于美国因素，世界最大的光刻机制造厂商ASML不能向国内企业提供高端EDA制造设备，也就是光刻机，但很少人知道，7nmDUV光刻机是可以提供的。近日，据美国媒体报道：ASML已获得荷兰官方许可，被允许在2023年年底前向中国客户出
如果有关注ASML动态新闻，可以知道，由于移民问题，ASML被爆出有离开荷兰，去其他国家扩张或迁移的想法，作为全球唯一一个能够生产芯片先进制程设备的光刻机巨头，ASML重要性不可言喻，因此美国、法国等积极争取建厂地点，但这个行为可以被喊停了
众所周知，荷兰ASML由于美国强制要求，无法对中国出口先进芯片设备，如光刻机等，然而这些还不够，美国再次提出强硬要求！据外媒报道，在美国联合日本、荷兰升级对于半导体设备的出口限制之后，美国正要求荷兰盟友对中国芯片制造设备的维护施加更多限制。
近年来，“芯片制造”开始成为了热词，其中最夺目的莫过于主角“光刻机”，但在芯片制造工艺中，除了光刻工艺外，还有其他多个重要工艺步骤，这些步骤和光刻一起共同促成了芯片的诞生！下面一起来看看有哪些工艺值得关注？1、晶圆制备晶圆制备是芯片制造的起
如果说，谁是会赚钱的芯片设备厂商，荷兰光刻机厂商ASML绝对榜上有名，作为全球唯一能制造芯片先进工艺的光刻机厂商，ASML一直是众多大厂的关注对象。据外媒报道，三星电子近日发布审计报告，在该报告中显示，三星电子在2023年第四季度已抛售所持
【科普】何谓MEMS？
MEMS是Micro Electro Mechanical Systems（微机电系统）的缩写，具有微小的立体结构（三维结构），是处理各种输入、输出信号的系统的统称。是利用微细加工技术，将机械零零件、电子电路、传感器、执行机构集成在一块电路板上的高附加值元件。MEMS工艺MEMS工艺以成膜工序、光刻
光刻胶的成分和光刻原理
最近有人问我光刻胶曝光的原理和正负光刻胶的主要组分是什么，我也只是知道是这么一回事，但是里面包含许多专有名词还是挺拗口的，反正我是不想去记它。 今天刚好找了一下以前的笔记，大家可以复习一下，写材料的时候也能从copy一下。首先，是光刻的工序 光刻胶分两种，一种正光刻胶、一种负光刻胶，出来的
1 •外延的命令epitaxy，参数及其说明如下：1.1外延的例子1.3光刻仿真•OPTOLITH模块可对成像(imaging)，光刻胶曝光(exposure)，光刻胶烘烤（bake）和光刻胶显影（development）等工艺进行精确定义••OPTOLITH提供光阻的库及其光学性质和显影时的特性（
半导体硅片，也叫做硅晶圆片，是由硅单晶锭切割而成的薄片，是半导体、光伏等行业广泛使用的基底材料。半导体硅片有多重要？凡是各种电子元器件及光伏材料，如二极管、集成电路等，均是由硅片进行光刻、离子注入等手段将其制作而成的，可以说，半导体硅片产业
众所周知，光刻机被誉为“芯片之母”，在芯片制造过程中扮演着至关重要的角色，造价昂贵，数量稀少，因此是高精度高密度的尖端设备，发展多年，至今只有ASML可生产先进工艺的光刻机。近日，俄罗斯公开表示正在研发光刻机，最快将在2024年出成果，据俄
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