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光刻机是半导体产品制作中的核心设备之一，EUV光刻机更是芯片制作的核心设备，全球中只有阿斯麦尔（ASML）公司能研发、生产、出口，制作EUV光刻机难度非常大，需要集齐多国零件和多种工艺技术，中国美国欧洲等多个国家投入资金研发EUV工控机都是
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全球液晶面板(LCD) 配向膜暨彩色光刻胶大厂JSR株式会社宣布将退出部分LCD材料市场，将关闭台湾地区工厂、缩减韩国工厂的产能，并且还将实行裁员措施。
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文章
电路设计dummy的作用
在电路设计中dummy的作用是： 1. 保证电路可制造性，防止芯片在制造过程中由于曝光过渡或不足而导致的蚀刻失败：如在tapeout的时候会检查芯片的density，插入dummy metal、dummy poly、dummy diff等； 2. 避免由于光刻过程中光的反射与衍射而影响到关键元器件物理图形的精度进又而影响其size：如在模拟电路的电阻、电容阵列外围加上dummy res和dummy cap等，以及关键MOS附近加dummy MOS等；
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