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在全球芯片行业中，ASML作为一家知名的光刻机制造商，必定是绕不开的重要角色，它先进的光刻技术和领先的研发能力是众多半导体制造厂商的首选合作伙伴，台积电、三星等厂商纷纷巴结希望得到最先进的光刻机。近日，ASML副总裁兼首席商务官Christ
近年来，欧美国家对俄罗斯实施了一系列经济和科技制裁，其中就包括限制俄罗斯企业使用EDA先进软件和制造设备，为摆脱海外限制，俄罗斯正在努力寻求新的解决方案。尽管受到制裁的影响，俄罗斯的科技企业仍在积极寻求解决方案以应对这些挑战。俄罗斯媒体爆料
众所周知，光刻机被誉为“芯片之母”，在芯片制造过程中扮演着至关重要的角色，造价昂贵，数量稀少，因此是高精度高密度的尖端设备，发展多年，至今只有ASML可生产先进工艺的光刻机。近日，俄罗斯公开表示正在研发光刻机，最快将在2024年出成果，据俄
光刻胶的成分和光刻原理
最近有人问我光刻胶曝光的原理和正负光刻胶的主要组分是什么，我也只是知道是这么一回事，但是里面包含许多专有名词还是挺拗口的，反正我是不想去记它。 今天刚好找了一下以前的笔记，大家可以复习一下，写材料的时候也能从copy一下。首先，是光刻的工序 光刻胶分两种，一种正光刻胶、一种负光刻胶，出来的
近年来，“芯片制造”开始成为了热词，其中最夺目的莫过于主角“光刻机”，但在芯片制造工艺中，除了光刻工艺外，还有其他多个重要工艺步骤，这些步骤和光刻一起共同促成了芯片的诞生！下面一起来看看有哪些工艺值得关注？1、晶圆制备晶圆制备是芯片制造的起
随着微电子高速发展，我国虽然在半导体芯片领域上起步较晚，甚至部分核心技术仍被海外垄断，但在政府扶持及企业重视，我国在硅基芯片上取得初步效果，但我们也不能忽视光子芯片。和常见的硅基芯片不同，光子芯片的工作原理跟硅基芯片不同，运算速度可提升10
1 •外延的命令epitaxy，参数及其说明如下：1.1外延的例子1.3光刻仿真•OPTOLITH模块可对成像(imaging)，光刻胶曝光(exposure)，光刻胶烘烤（bake）和光刻胶显影（development）等工艺进行精确定义••OPTOLITH提供光阻的库及其光学性质和显影时的特性（
半导体硅片，也叫做硅晶圆片，是由硅单晶锭切割而成的薄片，是半导体、光伏等行业广泛使用的基底材料。半导体硅片有多重要？凡是各种电子元器件及光伏材料，如二极管、集成电路等，均是由硅片进行光刻、离子注入等手段将其制作而成的，可以说，半导体硅片产业
众所周知，随着芯片先进制程工艺的提升，必然带来的是研发难度几何指数增长，作为全球最优秀的晶圆代工厂商——台积电，研发3nm制程就遇到了不少难关，如良品率、原材料上涨、光刻机等。然而，近日台积电总裁魏哲家在法人说明会上披露：台积电有望在202
众所周知，由于地缘政治关系紧张的因素，俄罗斯被美国制裁，因此为保证工业需求，俄罗斯大力发展半导体研发，出台多项半导体扶持政策，并取得了一定的初步效果。据俄罗斯国际新闻通讯社报道，来自圣彼得堡理工大学的研究团队成功研发出一种新型的“国产光刻复
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